專利基本信息
| 專利名稱 | 一種抑制軌跡誤差的隨機拋光軌跡運動方法 | ||
|---|---|---|---|
| 專利狀態(tài) | - | 專利號（申請?zhí)枺?/th> | CN102248461A |
| 專利申請日期 | 2011-04-02 | 專利類型 | 發(fā)明專利 |
| 申請公布號 | CN201110082649.9 | 申請公布日 | 2011-04-02 |
| 授權(quán)公告號 | - | 授權(quán)公告日 | - |
| 發(fā)明人 | 施春燕,袁家虎,伍凡,萬勇建,范斌,雷柏平 | ||
| 專利權(quán)人 | 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所 | ||
| 專利摘要 | 本發(fā)明一種抑制軌跡誤差的隨機拋光軌跡運動方法包括：確定待拋光光學(xué)元件表面的待拋光點和駐留時間分布,用隨機軌道算法生成待拋光光學(xué)元件表面離散點的拋光順序和拋光軌跡；用駐留時間補償方法計算拋光頭運動軌跡經(jīng)歷拋光點的停留時間分布,獲得待拋光光學(xué)元件表面離散點準(zhǔn)確的駐留時間；根據(jù)駐留時間的分布,由機床代碼轉(zhuǎn)換程序生成隨機軌跡數(shù)控拋光程序代碼,在數(shù)控拋光機床執(zhí)行隨機軌跡數(shù)控拋光程序代碼對待拋光光學(xué)元件表面各個點進(jìn)行拋光。隨機軌跡拋光方法根據(jù)面形分布,使拋光頭和磨粒的運動軌跡近似為隨機凌亂分布,待拋光光學(xué)元件不會殘留規(guī)則的軌跡劃痕,而且使規(guī)則的軌跡間的去除函數(shù)迭代誤差均勻的分布在整個面形中,提高面形精度。 | ||
專利價值評估分析
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樣例
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