針對芯片研發(fā)與制造對光刻技術的需求，研究超快激光超衍射納米光刻原理與關鍵核心技術，突破傳統(tǒng)光學衍射極限限制，建立激光多模式跨尺度微納結構光刻新方法，實現(xiàn)高精度、跨尺度、大面積、低成本、高效率微納結構光刻；研制激光超衍射納米光刻裝備中光學 系統(tǒng)、光刻物鏡等關鍵部件與分系統(tǒng)，發(fā)展二維光柵納米精度光刻定位技術，研發(fā)精密定位工作臺自動控制技術，進行光刻裝備的技術集成與工程化研發(fā)，提高其穩(wěn)定性、可靠性與一致性，研制具備大面積、高分辨力、高效率的跨尺度微納結構無掩模光刻能力的光刻裝備
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超快激光無掩模超衍射納米光刻技術與裝備
超衍射納米光刻 / 電子信息
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預算：面議
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截止時間：1212-01-04
需求方：中***********
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